應用領域：

電廠、水泥廠、空分、化工流程、磁性材料等高溫燒結爐保護性氣體、電子行業保護性氣體以及玻璃、建材行業、高壓氧艙的氧含量在線檢測分析。

技術參數：

• 測量原理：可定制（根據現場工況及量程定制）

• 測量范圍：微量氧、常量氧、高純氧（量程需根據客戶現場確定）

• 精 度：≤±1％F.S

• 重 復 性：≤±1％F.S

• 穩定性：≤±1％F.S

• 響應時間：T90≤15秒

• 工作環境：溫度：－25℃～＋45℃；濕度：≤90%RH（無結露）

• 樣氣壓力：0.05 MPa≤入口壓力≤0.1MPa（出氣口必須為常壓）

• 樣氣流量：400±10mL/ min。

• 工作電源： 220VAC±10%；50Hz±5%（一般便攜式自帶可充電電池）

分析原理：

電化學原理：電化學式氣體分析儀是一種化學類氣體分析儀表。它根據化學反應所引起的離子量的變化或者電流變化來測量氣體成分。為了提高選擇性，防止測量電極表面沾污和保持電解液性能，一般采用隔膜結構。常用的電化學式分析儀有定位電解式和伽伐尼電池式。

順磁氧分析儀原理：順磁式氧分析儀，也可叫做磁效應式氧分析儀、或磁式氧分析儀，我們通常通稱為磁氧分析儀。它一般分為磁機械式、磁壓力式和氧熱磁對流式分析儀三種該類型。順磁性氧分析儀利用氧分子具有順磁性，被測氣體引至內置磁場，氧分子在磁場內順應磁場運動，在懸掛的啞鈴球上產生推力，通過測量啞鈴球的偏移而得出被測氣體中的氧含量。

激光氧分析儀原理：激光吸收光譜技術的簡稱。DLAS技術本質上是一種光譜吸收技術，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術是一種高分辨率的光譜吸收技術，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。

氧化鋯原理：氧化鋯分析儀測量含氧量的基本原理是利用所謂的“氧濃差電勢”，即在一塊氧化鋯兩側分別附以多孔的鉑電極（又稱鉑黑）并使其處于高溫下。如果兩側氣體中含氧量不同，那么在兩電極間就會出現電動勢。這種電動勢是由于固體電解質兩側氣體含氧濃度不同而產生的，所以叫氧濃差電勢，而氧濃差電勢大小可以通過能斯特公式計算出來。